靶向納米顆粒抗壓強度試驗機是一種用于測定靶向納米顆粒在壓力作用下的力學(xué)性能的專業(yè)設(shè)備。

靶向納米顆?？箟簭姸仍囼灆C工作原理通過施加垂直壓力至顆粒破裂，記錄破裂瞬間的臨界壓力值，直接反映靶向納米顆粒的抗壓強度，為藥物載體設(shè)計提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)?。

?靶向納米顆粒抗壓強度試驗機技術(shù)特點：

?高精度測量?：采用電子傳感器和精密控制系統(tǒng)，分辨率可達±0.5%以內(nèi)，適用于微米級納米顆粒測試?。

?自動化操作?：集成數(shù)據(jù)采集軟件，自動生成壓力-變形曲線、統(tǒng)計大值/小值/平均值，并支持結(jié)果打印?。

?環(huán)境適應(yīng)性?：可調(diào)節(jié)試驗速度（如靜壓接觸樣品前后的獨立速度控制），適應(yīng)不同溫濕度條件下的測試需求?。

靶向納米顆?？箟簭姸仍囼灆C技術(shù)參數(shù)：

1.  產(chǎn)品規(guī)格：   MX-0230

2． 精度等級：   0.5級

3． 額定負荷：   0.5N 1N 5N  10N  20N 50N(任選或多選）

4． 有效測力范圍：0.1/100-100;

5． 試驗力分辨率，負荷±500000碼；內(nèi)外不分檔，且全程分辨率不變。

6. 位移分辨率：0.0001mm

7.  變形分辨率：0.0001mm

8． 有效試驗寬度：120mm

9． 有效試驗空間：300mm

10． 試驗速度:：0.001~300mm/min(任意調(diào))

11.  速度精度：示值的±0.5%以內(nèi)；

12．位移測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；

13．變形測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；

14．應(yīng)力控速率范圍： 0.005%～6％FS/S

15．應(yīng)力控速率精度： 速率＜0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±1%以內(nèi)；速率≥0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；

16．應(yīng)變控速率范圍： 0.002%～6％FS/S

17．應(yīng)變控速率精度： 速率＜0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±2%以內(nèi)；速率≥0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；

18. 恒力/位移/變形測量范圍：0.5％～100FS

19．恒力/位移/變形測量精度：設(shè)定值＜10％FS時, 為設(shè)定值的±1%以內(nèi)； 設(shè)定值≥10％FS時, 為設(shè)定值的±0.1%以內(nèi)；

20．試臺升降裝置：快/慢兩種速度控制，可點動；

21．試臺安全裝置：電子限位保護

22．試臺返回：手動可以高速度返回試驗初始位置，自動可在試驗結(jié)束后自動返回；

23．試驗定時間自動停車,試驗定變形自動停車,試驗定負荷自動停車

24．超載保護：超過大負荷10%時自動保護；

25. 自動診斷功能，定時對測量系統(tǒng)、驅(qū)動系統(tǒng)進行過載、過壓、過流、超負荷等檢查，出現(xiàn)異常情況立即進行保護

26．電源功率： 200W    

27．主機重量： 40kg

28. 電源電壓:  220V（單相）

29. 主機尺寸：430*315*855mm

30.整機體積：0.6方，重：77KG